ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆ ಹೈ ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು 300 ಮಿಲಿಮೀಟರ್‌ಗಳವರೆಗಿನ ತಳಪಾಯಗಳ ಮೇಲೆ ಲೋಹ ಮತ್ತು ಡೈಎಲೆಕ್ಟ್ರಿಕ್ ತೆಳು ಪದರಗಳನ್ನು ಶೇಖರಿಸುವ ಯಂತ್ರವಾಗಿದೆ. ಈ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ರೇಡಿಯೋ ಫ್ರೀಕ್ವೆನ್ಸಿ, ಡೈರೆಕ್ಟ್ ಕರೆಂಟ್ ಅಥವಾ ಪಲ್ಸ್ಡ್ ಡೈರೆಕ್ಟ್ ಕರೆಂಟ್‌ನಿಂದ ಚಾಲಿತವಾದ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟ್ರಾನ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಮೂಲಗಳನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಏಕ ವಿಧಾನ ಅಥವಾ ಸಹ-ಶೇಖರಣಾ ವಿಧಾನದಲ್ಲಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತದೆ. ಒಂದು ಮಾಡ್ಯುಲರ್ ರಚನೆಯು ಸರಳ ಅಳವಡಿಕೆ, ಸಾಗಣೆ ಮತ್ತು ನಿರ್ವಹಣೆಯನ್ನು ಸಾಧ್ಯವಾಗಿಸುತ್ತದೆ. ಹೊದಿಕೆಯನ್ನು ಶೀತ ಸುತ್ತಿದ ಉಕ್ಕಿನಿಂದ ಶೀಟ್ ಮೆಟಲ್ ಫಾರ್ಮಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಸ್ಪ್ರೇ ಫಿನಿಶಿಂಗ್ ಮೂಲಕ ತಯಾರಿಸಲಾಗಿದೆ, ಇದರಲ್ಲಿ ಅಲ್ಯುಮಿನಿಯಂ ಒಳ ಚೌಕಟ್ಟು ಮತ್ತು ಅರೆಪಾರದರ್ಶಕ ಬೂದು ಬಣ್ಣದ ಅಕ್ರಿಲಿಕ್ ಹೊದಿಕೆ ಇದೆ. ನಿಯಂತ್ರಣ ಪರದೆಯು ದಕ್ಷತಾಶಾಸ್ತ್ರದ (ಎರ್ಗೊನಾಮಿಕ್) ತತ್ವಗಳನ್ನು ಅನುಸರಿಸುತ್ತದೆ.
ಯೋಜನೆಯ ಹೆಸರು : Ultra High Vacuum Sputtering System, ವಿನ್ಯಾಸಕರ ಹೆಸರು : Yong Zhang, ಗ್ರಾಹಕರ ಹೆಸರು : Huaiyin Institute of Technology & Liaoning Petrochemical University.
ಈ ಶ್ರೇಷ್ಠ ವಿನ್ಯಾಸವು ವಾಸ್ತುಶಿಲ್ಪ, ಕಟ್ಟಡ ಮತ್ತು ರಚನೆ ವಿನ್ಯಾಸ ಸ್ಪರ್ಧೆಯಲ್ಲಿ ಕಂಚಿನ ವಿನ್ಯಾಸ ಪ್ರಶಸ್ತಿಯನ್ನು ಗೆದ್ದಿದೆ. ಅನೇಕ ಹೊಸ, ನವೀನ, ಮೂಲ ಮತ್ತು ಸೃಜನಶೀಲ ವಾಸ್ತುಶಿಲ್ಪ, ಕಟ್ಟಡ ಮತ್ತು ರಚನೆ ವಿನ್ಯಾಸ ಕಾರ್ಯಗಳನ್ನು ಕಂಡುಹಿಡಿಯಲು ಕಂಚಿನ ಪ್ರಶಸ್ತಿ ವಿಜೇತ ವಿನ್ಯಾಸಕರ ವಿನ್ಯಾಸ ಪೋರ್ಟ್ಫೋಲಿಯೊವನ್ನು ನೀವು ಖಂಡಿತವಾಗಿ ನೋಡಬೇಕು.
